半導體製程設備－離子植入 (Implanter) 陶瓷零件

技術特徵：

離子植入機專用精密組件：針對離子植入機（Implanter）設計，包含高絕緣子、屏蔽環、引燃極等零件。採用高純度氧化鋁材質，具備極高的介電強度（Dielectric Strength）與耐離子轟擊特性，確保在強電場環境下的操作穩定性。

高動態機械手臂終端效應器：照片涵蓋了多款主流尺寸與結構的陶瓷手臂。其輕量化且高剛性的設計，能顯著提升機械手臂在取放片時的動態響應速度，並將末端顫動（End-of-arm Vibration）降至最低。

積體化氣路設計：透過精密刻蝕技術整合真空吸附流道，表面平整度（Flatness）控制在微米級距，在確保穩定吸附晶圓的同時，極大化減少對晶圓背面的物理損傷。

優異的環境耐受力：具備極佳的耐電漿、抗腐蝕與熱循環穩定性，能有效減少製程中的微塵（Particle）污染，大幅延長零件的使用壽命與機台的平均維修間隔 (MTBM)。

我廠位於享譽全世界科技重鎮的臺灣新竹科學園區附近，有30年以上的專業生產加工氧化鋁、氧化鋯、氮化矽、碳化矽陶瓷生產加工經驗。技術力量雄厚、設備精良，加工經驗豐富。現有多臺精密數控設備、精密機床、以及各種領先的加工工藝和加工工具，並配備各種精密檢測儀器，以確保產品品質精度。可根據客戶圖紙生產、加工各種規格、種類的精密陶瓷零件。產品精度高，性能良好，廣泛應用於半導體、光伏、精密機械、軍工、醫療、科研等領域。

🔷 應用領域｜Applications 半導體晶圓製程設備（CVD / PVD / Etcher / Diffusion） LCD / OLED 面板製造設備 LED 磊晶與封裝設備太陽能電池製程設備真空鍍膜與濺鍍系統高溫爐具與熱處理設備

陶瓷切割／研磨盤（半導體用）

12吋晶圓傳輸手臂、離子植入機陶瓷零件、耐電漿陶瓷耗材、陶瓷手臂客製化代工。「合作流程 (Our Workflow)」

技術諮詢 (Technical Consulting)
圖面評估與模擬 (Drawing Review & FEA)
材料選型 (Material Selection)
精密加工與檢測 (Precision Machining & Inspection)
潔淨包裝與交貨 (Cleanroom Packaging & Delivery)

加工對象

半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件。

類型

離子植入（Implanter）陶瓷零件。

主要特點

針對**離子源（Ion Source）**零件，達陣公司建議定期更換以避免因陶瓷老化微裂紋導致的意外停機。我們可以根據您的機台型號（如 VIISta, VII80, Quantum 等）提供整套的預防性維護建議。

主要產品

半導體陶瓷耗材, 離子佈植機陶瓷, 氧化鋁絕緣塊, 電極屏蔽組件, 高壓陶瓷支柱, Fab 設備維護零件.集結了離子佈植機（Ion Implanter）中幾款最核心且幾何形狀複雜的精密陶瓷結構件。這類組件通常被統稱為「離子源陶瓷組件（Ion Source Ceramics）」，它們的共同點是必須在極高壓電場（HV）與高溫等離子體環境下，維持數微米級的定位精度。

相簿

半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體等級高純度陶瓷導向框 / 絕緣定位件。本產品採用 99.7% 以上的高純度氧化鋁（Al2O3）製造，專為半導體真空室內的高穩定性需求設計。具備卓越的尺寸安定性與電漿耐受性。四角精確鑽孔確保安裝時的對位精準度，長圓型開口設計能有效減少離子束流或製程氣體的干擾。
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
離子源高壓陶瓷絕緣柱 (Ion Source Insulator Post)。應用範圍： AMAT (Applied Materials), Axcelis 等主流離子佈植設備之維修與替換零件。
離子佈植設備專用—複合式陶瓷絕緣套管。階梯式陶瓷絕緣子 / 電極防護套。應用：離子源屏蔽、加速電極支撐、高壓饋通 (Feedthrough) 保護。
離子佈植設備專用—多孔位精密陶瓷基座。離子源精密定位絕緣塊 (Ion Source Alignment Block)。離子佈植機內部的離子源模組支撐、燈絲電極定位、以及高壓屏障。
離子佈植設備專用—嵌套式精密陶瓷絕緣組(組合式離子源絕緣子 / 電極襯套)。應用於高、中電流離子佈植機（High/Medium Current Implanter）的離子源室。
離子佈植機專用—多層傘齒式高壓絕緣子。傘齒型電極支撐絕緣柱 (Vane-type Electrode Support Insulator)離子佈植機加速電極支撐、高壓電源隔離、真空室內高壓饋通。
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
離子佈植設備專用—高純度氧化鋁雙孔絕緣法蘭(雙孔陶瓷絕緣子 / 真空饋通基座) 基座直徑約 50mm，中心柱高度約 20-30mm (依具體 P/N 規格而定)
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體製程設備－精密陶瓷電極承載板 / 真空室支撐基座。大型組件通常用於離子佈植機（Ion Implanter）或化學氣相沉積（CVD）設備中，作為電極背板或氣體分配系統的支撐底座。
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體離子佈植（Ion Implantation）製程中各類核心的高純度精密陶瓷組件。這些零件是維持機台高壓穩定性與製程純淨度的關鍵。主流離子佈植機台設計，達陣公司採用 99.7% 以上高純度氧化鋁（Al2O3）材質，結合精密 CNC 加工與表面處理技術。
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件
具有複雜階梯槽與沉頭孔位，用於離子源模組的側向支撐，能有效阻隔雜散離子轟擊金屬框架。
半導體製程設備－離子植入（Implanter）陶瓷零件

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