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精密セラミック部品

精密セラミック部品

タッチダウンで製造された精密セラミック部品は、優れた構造強度、耐高温性、優れた精度を備えています。

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プレシジョンセラミック

プレシジョンセラミック

Touch-Downは、特殊な形状のセラミック加工プロジェクトで優秀なエンジニアのグループを誇っています。

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セラミックチューブ| 高度なセラミック製造-タッチダウン

タッチダウンは主要なセラミックコンポーネントの1つです| 1997年以来のセラミック部品メーカー。多孔質セラミック、セラミックチューブ、セラミックナットとボルト、セラミックリングゲージとジグなどの高度なセラミック製造用の高品質の酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、SiC、SI3N4、SIO²セラミック材料。

ISO 9001の認証を取得し、ワンストップで製造されるTouch-Downの精密セラミックは、コンパクトで高純度、高精度です。試作品、セラミック成形、精密仕上げ、機械加工のいずれであっても、タッチダウンのセラミック部品は0.0001〜0.0003mmの公差精度で製造され、日本の基準を満たしています。

Touch-Downは、1997年以来20年以上にわたって米国、ヨーロッパ、オーストラリアに高度なセラミックを販売してきました。高度な技術と30年の経験の両方を備えたTouch-Downは、各顧客の要求に確実に応えます。

セラミック製品に塗布された窒化ケイ素(Si3N4)

窒化ケイ素(Si₃N₄)精密セラミック加工
窒化ケイ素(Si₃N₄)精密セラミック加工

窒化ケイ素セラミックは、熱、衝撃、衝撃に対して非常に耐性があります。優れた耐熱性と耐衝撃性に加えて、高強度により、窒化ケイ素は高温、高負荷の用途で優先されます。
 
窒化ケイ素セラミックの一般的な用途:半導体処理装置、一般産業機械、耐熱部品。
 
窒化ケイ素は重要な構造用セラミック材料です。潤滑性と耐摩耗性を備えた超硬原子結晶材料です。高温での酸化防止と熱衝撃への耐性が特徴です。空気中で1000℃以上に加熱した場合、急速に加熱する前に急速に冷却しても、断片化は発生しません。これは、窒化ケイ素セラミックの優れた特性のために、ベアリング、タービンブレード、メカニカルシール、永久金型、その他の機械部品の製造によく使用されます。エンジン部品の加熱面が高温に強く、伝熱しにくい窒化ケイ素セラミックでできていると、ディーゼルエンジンの品質を向上させ、燃料を節約し、熱効率を向上させることができます。中国、米国、日本や他の国々はすでにそのようなディーゼルエンジンを開発しています。

窒化ケイ素セラミックの製造

窒化ケイ素セラミックの製造技術は、過去数年で急速に発展しました。製造技術は主に反応焼結法、ホットプレス焼結法、大気圧焼結法、空気圧焼結法に焦点を当てています。窒化ケイ素の主な製造タイプは、空気圧焼結です。空気圧焼結窒化ケイ素は、超高硬度と優れた耐熱衝撃性を備えた高性能の科学技術セラミック材料です。窒化ケイ素は、高温耐性の点で他のセラミック材料よりもはるかに優れていると同時に、耐酸化性、強度、耐クリープ性などの優れた特性を備えています。加えて、窒化ケイ素は、独自の低い熱伝導率と高い耐摩耗性を備えているため、最も要求の厳しい環境に適用できます。耐酸性・耐アルカリ性の面では、フッ化水素酸に加えて、高温下での耐食性、耐酸化性に優れた他の鉱酸とは反応しません。

特徴

フッ化水素酸に加えて、他の無機酸(反応式:Si3N4 + 12 HF3SiF4↑+ 4 NH3↑)とは反応せず、強力な防食性を備えています。
-窒化ケイ素セラミック材料は、高温強度と優れた耐熱衝撃性を備えた精密セラミック材料を特徴としています。
-優れた機械的強度と耐高温性。
-熱膨張係数が小さく、耐熱衝撃性に優れています。
-化学的安定性、耐摩耗性、優れた耐食性。
-酸性ガス環境で1200度に加熱しても安定して使用できます。

窒化ケイ素の応用

窒化ケイ素は、高度な耐火材料として使用されています。たとえば、Si3N₄-SIC耐火材料としてSICを使用する高炉やその他の部品に使用されます。Si3N₄-BN材料としてBNと組み合わせた水平連続鋳造分離リングに使用されます。Si₃N₄-BNシリーズの水平連続鋳造分離リングは、均一な構造と高い機械的強度を備えた微細構造のセラミック材料です。優れた耐熱衝撃性を備えており、鋳造技術の要件に沿った溶鋼に濡れることはありません。

窒化ケイ素セラミックの主な性能データ
材料-Si₃N₄
焼結方法-ガス圧焼結
密度g /cm³3.22
-濃い灰色
吸水率0
ヤング率Gpa290
ビッカース硬度Gpa18〜20
圧縮強度Mpa2200
曲げ強度Mpa650
熱伝導率W / mK25
耐熱衝撃性Δ(°C)450〜650
最高作動温度°C1200
体積抵抗率Ω・cm> 10 ^ 14
誘電率-8.20
絶縁耐力kV / mm16

*室温環境でのテスト。
*上記の情報は比較のためにのみ提供されています。ちょうど

窒化ケイ素(Si₃N₄)

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